主 旨：本部107年「产学研发联盟合作计画-半导体领域试办计画」自即日起受理线上申请，申请机构须于106年9月29日(星期五)前将申请名册函送本部，逾期不予受理，请查照转知。
说 明：
一、旨揭计画执行期限自107年1月1日起至12月31日止，检附征求说明书1份如附件，计画书采用本部专题研究计画申请书格式，申请机构须并同检附联盟出具之联盟推荐证明文件（附件1）、申请人与企业之合作约定书（附件2）向本部提出申请，并说明本计画与吸引业界提供经费投入研发内容之关联，相关申请事宜如下：
(一)申请资格：
1. 申请机构(即执行机构)：符合本部补助专题研究计画作业要点第二点规定者。
2. 计画主持人（申请人）及共同主持人：符合本部补助专题研究计画作业要点第三点规定者。
3. 产学研发联盟(下称联盟)：其设立宗旨为促进产学合作、推动产业前瞻技术研发。联盟为计画申请之推荐机构，确认计画内容属于联盟及业界认可之产业前瞻技术研究。
4. 合作企业：指符合本部补助产学合作研究计画作业要点第二点规定者。申请本计画之申请人，须吸引业界提供经费投入研发，并与本计画之执行重叠一定期间。
(二)审查作业包括初审书面审查及复审会议审查，审查重点摘要如下：
1. 计画之研究主题必须具有前瞻性或创新性，以解决未来重要问题为目的；在前瞻性方面应属于「产业等级」而非「公司等级」，将排除厂商进行国内竞争者现有技术之申请案。
2. 博士生或博士后参与研究计画，或业界有吸纳计画内博士生或博士后诱因相关承诺者，将优先考量。
二、系统操作服务专线：本部资讯处(02)2737-7590~92。
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